run#36開始

途中キャンセルされたrun#35でしたが、無事run#36が開始しました。
というわけで、装置の仕上がり具合を確かめるために九州大学田中教授のグループに提供していただいた重水素化ポリスチレンの薄膜測定を行いました。
これもSi基板と同様、high-Q領域で長波長成分によるバックグラウンドが邪魔をしていたのですが、今回の装置整備によってQで約4.3nm^-1、反射率で10^-7まで測定する事に成功しました。
異なる角度でのフリンジの重なりも良好です。
今、小さな基板(15mm x 15mm)での反射率測定を行っていますが、時間さえかければ質の高いデータが測定できている模様です。

ちなみに、キャンセルされたビームタイムを少しでも補うために、11月と12月のビームタイムの間にあった1週間のメンテナンス期間をとりやめ、まとめてrun#36ということになりました。
BL16では最初に残っていた機器調整等を行った後にユーザーの実験を行い、12/3から(マシンタイム中ですが)装置本体の更新作業を行う予定です。